首頁>計畫成果專區>鐵酸鉍壓電薄膜之量產用靶材製備與鍍膜技術開發

計畫名稱:鐵酸鉍壓電薄膜之量產用靶材製備與鍍膜技術開發

申請機構:鑫科材料科技股份有限公司路科分公司

學研機構:國立交通大學(材料科學與工程學系)

計畫執行期程:102年6月1日~103年8月31日

計畫摘要

本計畫透過濕法球磨混粉、熱均壓燒結、研磨加工、共晶接合等方式,可製造出大型靶胚鐵酸鉍靶材(1000x100x10mm,10片拼接),且其緻密度可達>97%,接合間隙<0.3mm,接合率達>95%,單點未接合面積<2%,變形量 <1mm/m,達成原設計品質水準。 關鍵字(keywords):多鐵性材料(Multiferroics)、鐵酸鉍(BiFeO3)、磁電耦合(Magnetoelectric Coupling