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計畫名稱:屋瓦寫讀式超高密度磁碟量產技術與新穎關鍵材料開發

申請機構:和喬科技股份有限公司

學研機構:國立清華大學

計畫執行期程:101年5月1日至102年4月30日

計畫摘要
該計畫主要在開發非傳統垂直記錄之屋瓦式讀寫技術之硬碟片開發,藉由磁軌密度之大幅提升來提高整體記錄密度,其設計特性在於信號雜訊比的改善,減少磁交互力及減小磁叢尺寸,而相關刻紋技術、軟磁底層、中介層、磁性記錄層、類鑽層及潤滑層技術之整合,另以讀寫測試技術的開發為該計畫之重點,期能將密度再提升 20 % ~ 30 %,研究成果展示出超高記錄度密度碟片達800 Gb/in2 or 845Gb/in2之量產技術,所研發之碟片足以通過硬碟機採購廠商之規範。